GB/T19921-2005硅抛光片表面颗粒测试方法

本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片，也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷，但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能，并与检测时的初始设置有关。

标准号：GB/T 19921-2005

标准名称：硅抛光片表面颗粒测试方法

英文名称：Test method of particles on silicon wafer surfaces

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：作废

发布日期：2005-09-19

实施日期：2006-04-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>金属材料试验>>7704001金属材料试验综合

替代以下标准：被GB/T 19921-2018代替

起草单位：北京有色金属研究总院

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

发布单位：国家质量监督检验检疫