GB/T19921-2018硅抛光片表面颗粒测试方法

本标准规定了应用扫描表面检查系统对抛光片、外延片等镜面晶片表面的局部光散射体进行测试，对局部光散射体与延伸光散射体、散射光与反射光进行区分、识别和测试的方法。

标准号：GB/T 19921-2018

标准名称：硅抛光片表面颗粒测试方法

英文名称：Test method for particles on polished silicon wafer surfaces

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2018-12-28

实施日期：2019-07-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>77040金属材料试验

替代以下标准：替代GB/T 19921-2005

起草单位：有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院、天津市环欧半导体材料技术有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全

发布单位：国家市场监督管理总局