GB/T18682-2002物理气相沉积TiN薄膜技术条件

本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层（TiC，TiCN，TiAlN等）。

标准号：GB/T 18682-2002

标准名称：物理气相沉积TiN薄膜技术条件

英文名称：Specifications of physical vapour deposition TiN films

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2002-03-10

实施日期：2002-08-01

中国标准分类号（CCS）：综合>>基础标准>>A29材料防护

国际标准分类号（ICS）：机械制造>>表面处理和涂覆>>2522020表面处理

起草单位：武汉材料保护研究所

归口单位：全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会

发布单位：国家质量监督检验检疫