KSDISO14706-2003表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物

标准号:KS D ISO 14706-2003
标准名称: 表面化学分析用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
英文名称:Surface chemical analysis-Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
标准类型:国外标准
标准状态:现行
发布日期:2003-12-29
实施日期:2003-12-29
中国标准分类号(CCS):G04
国际标准分类号(ICS):7104040
