蒸发镀膜仪的使用方法

3Pa以下时，可开始加热蒸发源。

-注意：若真空度上升异常，需检查密封性或重启分子泵。

2.预热与参数设置

-设定衬底温度(通常为室温至300℃)，预热10~15分钟以稳定热场。

-调节蒸发电流：从低电流(如10~20 A)逐步增加，避免瞬间过热导致镀料飞溅。

3.蒸发镀膜

-缓慢升高电流至镀料熔化(如铝需约80~100 A)，保持恒定蒸发速率。

-通过石英晶体振荡器或光学监控(如反射率变化)实时观测膜厚，典型沉积速率为0.1~1 nm/s。

-关键点：蒸发源与基底的距离需根据材料特性调整(通常5~10 cm)，过近易造成薄膜应力过大，过远则效率低。

4.冷却与取样

-镀膜完成后，先关闭蒸发电源，待腔体冷却至100℃以下时关闭分子泵。

-缓慢充入惰性气体(如氩气)至常压，取出样品并转移至干燥器中保存。

三、注意事项与常见问题

1.防止污染

-严禁用手直接接触基底或镀料，需佩戴无尘手套操作。

-腔体内禁止使用油性工具，避免交叉污染。

2.参数敏感性

-真空度不足会导致薄膜氧化或掺气，需定期更换真空泵油。

-蒸发电流过高可能使镀料喷溅，形成“颗粒缺陷”；过低则沉积速率慢，易引入杂质。

3.薄膜均匀性控制

-基底需自转或公转以实现均匀沉积，转速通常为10~60 rpm。

-多源蒸发时需调整源位置与功率，避免厚度梯度差异。

4.安全风险

-高温部件(如钨舟)可能引发烫伤，操作时需使用隔热钳。

-突然断电时，立即关闭分子泵电源，防止反灌损坏。

四、设备维护与故障处理

1.日常维护

-每次使用后清理腔体，涂抹适量抗氧化剂(如凡士林)保护金属部件。

-每月检查分子泵运转噪音与振动，必要时更换轴承。

2.典型故障排除

-真空度不达标：检查密封圈、更换扩散泵冷阱内的吸附剂。

-薄膜剥落：基底温度过低或清洁度不足，需提高预热温度或延长超声清洗时间。

-厚度不均：调整蒸发源角度或增加基底旋转速度。

总结：以上是蒸发镀膜仪的使用方法，遵循以上操作，可确保仪器的正常运行，从而延长其使用寿命！