GB/T6619-1995硅片弯曲度测试方法

2025-06-28

本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片弯曲度的接触式测量方法。本标准适用于测量直径大于50mm,厚度为200~1000μm的圆形硅片的弯曲度。本标准也适用于测量其他半导体圆片弯曲度。

标准号:GB/T 6619-1995

标准名称:硅片弯曲度测试方法

英文名称:Test methods for bow of silicon slices

标准类型:国家标准

标准性质:推荐性

标准状态:作废

发布日期:1995-04-18

实施日期:1995-01-02

中国标准分类号(CCS):冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号(ICS):2904030

替代以下标准:替代GB 6619-1986;被GB/T 6619-2009代替

起草单位:电子部标准化所

归口单位:全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布单位:国家技术监督局

GB/T6620-1995硅片翘曲度非接触式测试方法
GB/T6619-2009硅片弯曲度测试方法
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