GB/T37049-2018电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。

标准号：GB/T 37049-2018

标准名称：电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

英文名称：Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

实施日期：2019-04-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>金属材料试验>>7704030金属材料化学分析

起草单位：江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全

发布单位：国家市场监督管理总局