GB/T35309-2017用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。 本标准适用于尺寸在600μm～3000μm的颗粒状多晶硅，其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标准执行。

标准号：GB/T 35309-2017

标准名称：用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

英文名称：Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2017-12-29

实施日期：2018-07-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>77040金属材料试验

起草单位：江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、洛阳中硅高科技有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全

发布单位：国家质量监督检验检疫