GB/T34649-2017磁控溅射用钌靶

本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶。

标准号：GB/T 34649-2017

标准名称：磁控溅射用钌靶

英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2017-09-29

实施日期：2018-04-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>有色金属及其合金产品>>H68贵金属及其合金

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属产品>>7715099其他有色金属产品

起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

发布单位：国家质量监督检验检疫