GB/T33236-2016多晶硅痕量元素化学分析辉光放电质谱法

本标准规定了采用辉光放电质谱(GD?MS)法测量多晶硅中杂质元素的测试方法。?本标准适用于多晶硅材料中除氢和惰性气体元素以外的其他杂质元素含量的测定，测量范围是本方法的检出限至01%（质量分数)，检出限根据所用仪器及测量条件确定。通过合适的标准样品校正，也可以测量质量分数大于01%的杂质元素含量。单晶硅材料中痕量杂质元素也可参照本标准测量。?

标准号：GB/T 33236-2016

标准名称：多晶硅 痕量元素化学分析 辉光放电质谱法

英文名称：Polycrystalline silicon—Determination of trace elements—Glow discharge mass spectrometry method

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2016-12-13

实施日期：2017-11-01

中国标准分类号（CCS）：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法

国际标准分类号（ICS）：化工技术>>分析化学>>7104040化学分析

起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

发布单位：国家质量监督检验检疫