GB/T14849.4-2008工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定素含量

GB/T 14849《工业硅化学分析方法》分为四部分，本部分为第４部分。本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分也适用于以上其含量的测定。

标准号：GB/T 148494-2008

标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定素含量

英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：作废

发布日期：2008-06-09

实施日期：2008-12-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属>>7712010铝和铝合金

替代以下标准：被GB/T 148494-2014代替

起草单位：中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

发布单位：国家质量监督检验检疫