JC/T2133-2012半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定-电感耦合等离子体原子发射光谱法

本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。

标准号：JC/T 2133-2012

标准名称：半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 -电感耦合等离子体原子发射光谱法

英文名称：Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

标准类型：行业标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2012-12-28

实施日期：2013-06-01

中国标准分类号（CCS）：医药、卫生、劳动保护>>医药>>C14解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药

国际标准分类号（ICS）：化工技术>>71040分析化学

起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所

归口单位：全国工业陶瓷标准化技术委员会功能陶瓷分技术委员会

发布单位：工业和信息化部