YS/T719-2009平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。

标准号：YS/T 719-2009

标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

英文名称：Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating

标准类型：行业标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2009-12-04

实施日期：2010-06-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属产品>>7715099其他有色金属产品

起草单位：利达光电股份有限公司

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

发布单位：工业和信息化部