GB/T6621-1995硅抛光片表面平整度测试方法

本标准规定了用相干光的干涉现象测量硅抛光片表面平整度的方法。本标准适用于检测硅抛光片的表面平整度，也适用于检测硅外延片和类镜面状半导体晶片的表面平整度。

标准号：GB/T 6621-1995

标准名称：硅抛光片表面平整度测试方法

英文名称：Test methods for surface flatness of silicon polished slices

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：作废

发布日期：1995-04-18

实施日期：1995-01-02

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号（ICS）：2904030

替代以下标准：GB 6621-1986;被GB/T 6621-2009代替

起草单位：电子部标准化所

归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布单位：国家技术监督局