GB/T6618-1995硅片厚度和总厚度变化测试方法

2025-06-28

本标准规定了硅单晶切割片、研磨片和抛光片(简称硅片)厚度和总厚度变化的分立点式和扫描式测量方法。本标准主要用于符合国标GB 12964、GB 12965规定的尺寸的硅片的厚度和总厚度变化的测量。在测试仪器允许的情况下,本标准也可用于其他规格硅片的厚度和总厚度变化的测量。

标准号:GB/T 6618-1995

标准名称:硅片厚度和总厚度变化测试方法

英文名称:Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices

标准类型:国家标准

标准性质:推荐性

标准状态:作废

发布日期:1995-04-18

实施日期:1995-01-02

中国标准分类号(CCS):冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号(ICS):2904030

替代以下标准:替代GB 6618-1986;被GB/T 6618-2009代替

起草单位:电子部标准化所

归口单位:全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布单位:国家技术监督局

GB/T6618-2009硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T6617-2009硅片电阻率测定扩展电阻探针法
猜您喜欢......
返回顶部小火箭