GB/T5252-2006锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法

本标准适用于位错密度0cm~100000cm-2的n型和p型锗单晶棒或片的位错密度或其他缺陷的测量。观察面为[111]、[100]和[113]面。

标准号：GB/T 5252-2006

标准名称：锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法

英文名称：Germanium monocrystal - inspection of dislocation etch pit density

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：作废

发布日期：2006-07-18

实施日期：2006-11-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>金属材料试验>>7704001金属材料试验综合

替代以下标准：替代GB/T 5252-1985;被GB/T 5252-2020代替

起草单位：北京有色金属研究总院

归口单位：中国有色金属工业协会

发布单位：国家质量监督检验检疫