GB/T32999-2016表面化学分析深度剖析用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率

本标准规定了利用俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）测定深度剖析离子溅射速率的方法，试样的离子溅射面积范围为04 mm?2～30 mm?2。本标准只适用于横向均匀的体相材料或单层材料，其离子溅射速率由溅射深度与溅射时间确定，溅射深度通过机械探针轮廓仪测得。?本标准提供了一种将深度剖析中的离子溅射时间转换为溅射深度的方法，并假设溅射速率恒定。本方法不是为扫描探针显微系统设计的，因此不能用扫描探针显微系统评价该方法。本方法不适用于溅射面积小于04 mm?2的情况，也不适用于溅射诱导的表面粗糙度与被测区域的溅射深度相比较明显的情况。?

标准号：GB/T 32999-2016

标准名称：表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率

英文名称：Surface chemical analysis—Depth profiling—Measurement of sputtering rate:mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2016-10-13

实施日期：2017-09-01

中国标准分类号（CCS）：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法

国际标准分类号（ICS）：化工技术>>分析化学>>7104040化学分析

起草单位：北京师范大学分析测试中心、清华大学分析中心

归口单位：全国微束标准化技术委员会(SAC/TC 38)

发布单位：国家质量监督检验检疫