GB/T17473.6-2008微电子技术用贵金属浆料测试方法分辨率测定

本标准代替ＧＢ／Ｔ１７４７３—１９９８ 《厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法》（所有部分），本标准分为７个部分,本部分为ＧＢ／Ｔ１７４７３—２００８的第６部分。 本部分规定了微电子技术用贵金属浆料分辨率的测定方法。本部分适用于微电子技术用贵金属浆料的分辨率测定。 本部分代替ＧＢ／Ｔ１７４７３．６—１９９８ 《厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法　分辨率测定》。本部分与ＧＢ／Ｔ１７４７３．６—１９９８相比，主要有如下变动：———将原标准名称修改为微电子技术用贵金属浆料测试方法　分辨率测定；———增加了固化型贵金属浆料分辨率测定的内容；———原“光刻膜丝网网径２０ 不锈钢丝网”改为“光刻膜丝网，丝网孔径不大于５４μｍ”；———增加６．３将印有固化型的试样按其规定的工艺要求进行静置、烘干、固化，固化后试样膜厚控制在１μｍ～１５μｍ；———分辨率规格分级重新定义为０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ、０．５ｍｍ 五个级别。

标准号：GB/T 174736-2008

标准名称：微电子技术用贵金属浆料测试方法 分辨率测定

英文名称：Test methods of precious metal pastes used for microelectronics - Determination of resolution

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2008-03-31

实施日期：2008-09-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>有色金属及其合金产品>>H68贵金属及其合金

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属>>7712099其他有色金属及其合金

替代以下标准：替代GB/T 174736-1998

起草单位：贵研铂业股份有限公司

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

发布单位：国家质量监督检验检疫