GB/T17169-1997硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法

2025-06-29

本标准规定了半导体硅抛光片和外延片表面常见缺陷的光反射无损检验方法。本标准适用于半导体硅抛光片和外延片表面质量的无损检验。本标准的检验结果与GB/T 6624、GB/T 14142的检验结果一致。

标准号:GB/T 17169-1997

标准名称:硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法

英文名称:Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection

标准类型:国家标准

标准性质:推荐性

标准状态:作废

发布日期:1997-01-02

实施日期:1998-08-01

中国标准分类号(CCS):冶金>>金属理化性能试验方法>>H24金相检验方法

国际标准分类号(ICS):电气工程>>29045半导体材料

起草单位:南开大学,天津市半导体材料厂

归口单位:全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布单位:国家技术监督局

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