GB/T16879-1997掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。

标准号：GB/T 16879-1997

标准名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：1997-06-20

实施日期：1998-03-01

中国标准分类号（CCS）：电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备

国际标准分类号（ICS）：电子学>>31020电子元件综合

起草单位：中国科学院微电子中心

归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布单位：国家技术监督局