GB/T14144-2009硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法

本标准适用于室温电阻率大于01Ω·cm 的n型硅单晶和室温电阻率大于05Ω·cm 的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。
标准号:GB/T 14144-2009
标准名称:硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法
英文名称:Testing method for determination of radial interstitial oxygen variation in silicon
标准类型:国家标准
标准性质:推荐性
标准状态:现行
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
中国标准分类号(CCS):冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
国际标准分类号(ICS):电气工程>>29045半导体材料
替代以下标准:替代GB/T 14144-1993
起草单位:峨嵋半导体材料厂
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
发布单位:国家质量监督检验检疫
