YS/T1024-2015溅射用钽靶材

本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料,通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材。

标准号：YS/T 1024-2015

标准名称：溅射用钽靶材

英文名称：Tantalum sputtering targets

标准类型：行业标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2015-04-30

实施日期：2015-10-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属产品>>7715099其他有色金属产品

起草单位：宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

发布单位：工业和信息化部