YS/T1025-2015电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输存贮、订货单（或合同）等内容。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，简称高纯钨及钨合金靶。

标准号：YS/T 1025-2015

标准名称：电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

英文名称：High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film

标准类型：行业标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2015-04-30

实施日期：2015-10-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属产品>>7715099其他有色金属产品

起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

发布单位：工业和信息化部