YS/T26-2016硅片边缘轮廓检验方法

2025-06-28

本标准规定了硅片边缘轮廓(包含切口)的检验方法。本标准适用于检验倒角硅片的边缘轮廓(包含切口),砷化镓等其他材料晶片边缘轮廓的检验可参照本标准执行。

标准号:YS/T 26-2016

标准名称:硅片边缘轮廓检验方法

英文名称:Test methods for edge contour of silicon wafers

标准类型:行业标准

标准性质:推荐性

标准状态:现行

发布日期:2016-07-11

实施日期:2017-01-01

中国标准分类号(CCS):冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号(ICS):冶金>>77040金属材料试验

替代以下标准:替代YS/T 26-1992

起草单位:洛阳单晶硅集团有限责任公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司

归口单位:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

发布单位:工业和信息化部

YS/T261-2011锂辉石精矿
YS/T26-1992硅片边缘轮郭检验方法
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