GB/T14143-1993300?900UM硅片间隙氧含量红外吸收测量方法

2025-06-29

本标准规定了用红外吸收法测定厚度为300~900μm的硅片间隙氧含量的方法。本标准适用于室温电阻率大于01Ω·cm的硅片间隙氧含量的测量。

标准号:GB/T 14143-1993

标准名称:300?900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法

英文名称:300~900μm Silicon slices-Measuring of interstitial oxygen content-Infrared absorption method

标准类型:国家标准

标准性质:推荐性

标准状态:作废

发布日期:1993-02-06

实施日期:1993-10-01

中国标准分类号(CCS):冶金>>金属理化性能试验方法>>H26金属无损检验方法

国际标准分类号(ICS):2904030

替代以下标准:被GB/T 1557-2006代替

起草单位:机电部第四十六研究所

归口单位:中国有色金属工业协会

发布单位:国家技术监督局

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