GB/T14139-2009硅外延片

本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则及标志、包装运输、贮存等。本标准适用于在Ｎ 型硅抛光片衬底上生长的ｎ型外延层（Ｎ／Ｎ＋ ）和在ｐ型硅抛光片衬底上生长的Ｐ型外延层（Ｐ／Ｐ＋ ）的同质硅外延片。产品主要用于制作硅半导体器件。其他类型的硅外延片可参照使用。

标准号：GB/T 14139-2009

标准名称：硅外延片

英文名称：Silicon epitaxial wafers

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：作废

发布日期：2009-10-30

实施日期：2010-06-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合

国际标准分类号（ICS）：电气工程>>29045半导体材料

替代以下标准：替代GB/T 14139-1993;被GB/T 14139-2019代替

起草单位：宁波立立电子股份有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

发布单位：国家质量监督检验检疫